干研磨濕研磨拋光的基本原理
干研磨,主要是嵌入研磨平板表面的砂粒起切削作用。當(dāng)零件在研磨壓力的作用下,在嵌有砂粒的研磨平板上相對(duì)滑動(dòng)時(shí),砂粒對(duì)被研磨表面的高點(diǎn)產(chǎn)生壓縮作用,由于內(nèi)應(yīng)力的增大而產(chǎn)生彈性變形。當(dāng)應(yīng)力大過(guò)屈服點(diǎn)后,之后進(jìn)入塑性變形,晶粒和晶粒之間產(chǎn)生滑移,隨著變形的增大,之后失去聯(lián)系而破裂,這便是所謂的研屑。研磨輔料的存在,改&善了切削條件,促進(jìn)了研磨質(zhì)量和效率的提高。當(dāng)然,在切削作用的同時(shí),還存在著其它一些輔助作用。如氧化膜的形成和去除;砂粒擠壓產(chǎn)生的塑性變形作用;摩擦和切削所起的熱熔作用,這些作用隨著磨料粒度的細(xì)化而增強(qiáng)。
濕研磨,由于不間斷的添加研磨劑,不但有新砂粒參加研削,而且砂粒的各個(gè)微刃變換切削,使各個(gè)鋒刃都發(fā)揮了作用,同時(shí)冷卻潤(rùn)滑條件良好。隨著研磨劑中活化輔料的增加,化學(xué)作用和電化學(xué)作用也隨之增強(qiáng)。這是使之成為高&效率研磨方法的主要原因。
拋光是一個(gè)_復(fù)雜的加工過(guò)程。研磨劑中品種繁多的活化物質(zhì)大量增加,化學(xué)作用_活躍頻繁,磨料只起到破壞氧化膜的作用。同時(shí),某些磨料的本身起著化學(xué)作用。如氧化鉻中的游離硫磺蒸汽與金屬表面起化學(xué)作用,形成了一層很薄的強(qiáng)度很低的硫化膜,它對(duì)硬脂酸和氧化鉻起吸附作用。當(dāng)零件與研具相對(duì)滑動(dòng)時(shí),吸附在零件表面的氧化鉻將高點(diǎn)的硫化膜破壞,重新露出新鮮的金屬,復(fù)而又形成硫化膜,這樣反復(fù)不斷的對(duì)零件的波峰進(jìn)行光整加工。
由于研具用極軟的材料制成,砂粒在拋光過(guò)程中,往往存在于軟基體之中,因而在一&定范圍內(nèi),磨料的粒度對(duì)拋光效果影響不是很明顯。